Research
플라즈마를 통한 반도체 고집적화의 한계 극복
플라즈마를 통한 반도체 고집적화의 한계 극복
생의학 분야로의 응용연구
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Low-k, ILD, RC delay
저유전상수 물질
반도체 소자의 고집적화로 인해 발생하는 다층배선의 신호 지연(RC delay)을 해결하기 위해, 층간절연막(ILD)용 SiCOH 저유전상수(low-k) 물질을 개발합니다. -
Capping layer, Diffusion Barrier, TDDB
구리 확산 방지막
반도체 다층배선의 캡핑층으로 적용되는 SiCN 확산방지막을 개발하며, 차세대 interconnect에 활용하기 위해 낮은 유전상수와 우수한 확산 방지 성능을 동시에 구현합니다. -
Ureteral stent, Biliary stent, 플라즈마 코팅
의료용 스텐트
체내 요관·담관 등의 협착증 치료를 위해 삽입되는 의료용 스텐트의 막힘을 방지하기 위해, 플라즈마 코팅 기술을 적용한 융·복합 연구를 진행합니다.